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Taiwan / 繁体中文
首頁 產品 表面處理 熱解石墨塗層PYROGRAPH™

熱解石墨塗層PYROGRAPH™

熱解石墨塗層PYROGRAPH™
PYROGRAPH™
在偏光顯微鏡下的橫截面圖
PYROGRAPH™產品是指,利用東洋炭素專有化學氣相沉積 (CVD) 工藝,在高純度等方性石墨表面塗敷細層熱解碳的產品。

特性

  • 熱解碳塗層非常細密
  • 純度超高
  • 塗層可確保透氣性極低
  • 抗氣體耐蝕性卓越
  • 低溫抗氧性佳
  • 耐熱性卓越
  • 防止石墨顆粒分離和分散、石墨釋放氣體、石墨基底出現雜質

應用、產品

  • 單晶矽製造設備
  • 用於原子吸收光譜儀中的管子
  • OLED 製造設備

特性/測試資料

雜質分析範例

雜質分析範例

* 測量方法:輝光放電質譜法
* 以上圖表僅為測量範例,無法保證必定能得到如此的結果。

一般物理特性

一般物理特性

* 熱膨脹係數的溫度範圍是室溫至 1,000℃。
* 以上圖表摘自其他出版物,無法保證必定能得到如此的結果。

透氣性

透氣性

參考資料:日本碳素材料學會出版的「碳素材料入門」第 137 頁

放射率 (輻射係數)

放射率 (輻射係數)